Плазменный источник ионов алюминия в имплантере

• Номер работы:
  258025
• Раздел:
  Все работы   →   Дипломные техническая   →   Физика
• Год добавления:
  01.06.2013 г.
• Объем работы:
  49 стр.
• Содержание:
  ВВЕДЕНИЕ 3
  ГЛАВА 1. ДОСТИЖЕНИЯ В ОБЛАСТИ РАЗРАБОТКИ ИСТОЧНИКОВ ИОНОВ ДЛЯ ИМПЛАНТЕРОВ 7
  1.1. КАК РОЖДАЕТСЯ ПЛАЗМА. 7
  1.2. МЕТОД ИОННОЙ ИМПЛАНТАЦИИ 7
  1.2.2.. КЛАССИФИКАЦИЯ ОБОРУДОВАНИЯ ДЛЯ ИОННОЙ ИМПЛАНТАЦИИ 14
  1.3 АНАЛИЗ ИИ 25
  1.4. ЦЕЛИ И ЗАДАЧИ ДИПЛОМНОЙ РАБОТЫ 31
  ГЛАВА 2. ИСТОЧНИК ИОНОВ AL ДЛЯ ИМПЛАНТЕРА 33
  2.1. СТРУКТУРНАЯ СХЕМА 33
  ГЛАВА 3. МЕТОДИКА РАСЧЕТА ЭЛЕМЕНТОВ КОНСТРУКЦИИ 34
  ЗАКЛЮЧЕНИЕ 38
  ЛИТЕРАТУРА 40
  
• Выдержка из работы:
  Некоторые тезисы из работы по теме Плазменный источник ионов алюминия в имплантере
  ВВЕДЕНИЕ
  Ионная бомбардировка твердых тел пучками ускоренных ионов с целью модификации свойств поверхностного слоя используется в различных отраслях современной науки и техники. Спектр применения ионно-лучевых технологий в настоящее время очень широк. В процессе взаимодействия атомных частиц с твердыми телами в зависимости от их вида, энергии, интенсивности облучения происходят сложные физико-химические процессы в поверхностном слое твердого тела. Такими процессами, инициируемыми облучением твердых тел атомными частицами, могут быть активация химических реакций на поверхности, распыление, внедрение, дефектообразование и т.д. [1,2].
  .............
  ГЛАВА 1. ДОСТИЖЕНИЯ В ОБЛАСТИ РАЗРАБОТКИ ИСТОЧНИКОВ ИОНОВ ДЛЯ ИМПЛАНТЕРОВ
  1.1. КАК РОЖДАЕТСЯ ПЛАЗМА.
  
  Известно, что в природе существуют четыре агрегатных состояния вещества — газообразное, твердое, жидкое и плазма. Плазмой называют квазинейтральный газ заряженных и нейтральных частиц, концентрация которых достаточно для того, чтобы создаваемый ими пространственный заряд ограничивал их движение. Для выполнения этого условия нужно, чтобы характерный размер плазмы был много больше характерного размера экранирования (радиуса Дебая) – расстояния, на котором нарушается квазинейтральность за счет теплового движения частиц.[1]
  Как рождается плазма?
  ............
  ЗАКЛЮЧЕНИЕ
  
  Несмотря на большое количество исследований в области ионной имплантации, остаётся ещё множество вопросов, стоящих перед исследователями [3]. В частности, мало изучены процессы, происходящие при внедрении ионов с энергией от 1 кэВ ( Дж) до 10 кэВ ( Дж) в материал подложки и от 50 МэВ ( Дж) и более [12]. Данные многочисленных экспериментов свидетельствуют о наличие эффекта дальнодействия, когда радиационные дефекты и упругие напряжения в имплантированном слое могут проникать на значительно большие глубины нежели имплантированные атомы, оказывая существенное влияние на свойства легируемого изделия. Это сложный и малоизученный процесс, поэтому в настоящее время в литературе существуют лишь очень приблизительные модели его описания [21, 22].
  ..............